13311665350
產品中心
當前位置:首頁產品中心C系列-氣相沉積爐
產品分類
C系列-氣相沉積爐
相關文章
熱誘導化學氣相沉積 (英語:chemical vapor deposition ,CVD)是用于各種電介質,半導體和金屬材料的保護涂層的沉積的有力方式,無論是單晶,多晶,無定形或外延狀態上或大或小的形態。典型的涂層材料包括熱解碳,碳化硅,氮化硼。通過使用合成前體,涂層非常純凈并目滿足半導體工業的典型要求,根據工藝參數,可以有多種層厚度。
Copyright © 2024上海皓越真空設備有限公司 All Rights Reserved 備案號:滬ICP備2022033023號-1
技術支持:化工儀器網 管理登錄 sitemap.xml 總訪問量:602000
服務熱線:1331166535013917898272